微納光電子功能材料實驗室

超高真空薄膜制備系統

更新時間:2019-06-17 【打印】 【關閉
設備名稱: 超高真空薄膜制備系統
設備型號  JGP560 設備編號  726201 產 地  沈陽
制造商名稱  中科院沈陽科學儀器研制中心有限公司
經銷商  中科院沈陽科學儀器研制中心有限公司
購置時間  2007/4/20 啟用日期  2008/8/6 儀器金額  500000
接收時的狀態及驗收記錄  完好,驗收合格
儀器描述  本系統為單室立式結構的超高真空多功能磁控濺射鍍膜系統.
儀器主要配件  射頻磁控電源、控溫裝置、微機控制膜層系統等
儀器主要功能  本底真空可達≦1×10-5Pa,可采用直流濺射、射頻濺射、反應濺射、共濺射等濺射方法開發制備納米級單層及多層功能膜、各種硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等。其中一個樣品表面溫度可加熱到600℃.可加負偏壓。
分析項目說明  靶材要求:濺射靶材直徑為60mm,厚≦5mm  基片要求:尺寸為20×50mm或直徑為30mm的圓形基片。
聯系方式  張奎:021-69918562
設備圖片  
新疆十一选五前三走势图带连线